成果基本信息 |
成果名稱 |
高純金屬大尺寸旋轉靶材的冷噴涂制備技術 | |||
技術領域 |
新材料 | ||||
應用行業 |
金屬材料 | ||||
技術成熟度 |
小試 | ||||
成果內容介紹 |
Ag、Nb、Ta、Cu等金屬濺射靶材是集成電路、OLED器件、薄膜電池、智能玻璃等產品的重要基礎耗材。針對傳統熔鑄和熱噴涂技術制造靶材存在組織結構不均勻、晶粒粗大（熔鑄的晶粒>100 μm）、孔隙等缺陷，與背板（管）結合性能差的問題，且鑄造技術難以實現大尺寸靶材制造的現狀，開展冷噴涂制備大型高純金屬旋轉靶材的應用攻關，開發了組織結構均勻致密、晶粒細小、低氧化、材料利用率接近100%、結合性能好的大厚度涂層制備技術。整體水平達到國際先進水平。 |
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專利名稱 |
高純金屬大尺寸旋轉靶材的冷噴涂制備技術 | 專利號 |
（1）CN114231917A （2）CN108118326A （3）CN108195755A | ||
合作方式 |
合作開發 | ||||
聯系人 |
謝迎春 | 聯系方式 |
18802034985 | 單位 |
廣東省科學院新材料研究所 |
